Dễ dàng xử lý xử lý bề mặt cho các bộ phận nhạy cảm
- Plasma argon có khả năng tiếp xúc
- Không tạo ra tia lửa, hồ quang, bụi, bức xạ UV hoặc nhiệt quá mức
- Không có rủi ro phóng tĩnh điện (ESD) đối với các linh kiện điện tử nhạy cảm (ví dụ: tấm bán dẫn, khung chì, bộ phận đóng gói bán dẫn)
| Thông số cơ bản | Nền tảng hệ thống xử lý bề mặt plasma MYS |
| Yêu cầu về nguồn điện | 220 V, 2 kW, 10 A, 60 Hz |
| Yêu cầu về khí | 90 psi (6 thanh) |
| Kích thước (W x D x H) | 1.200 x 770 x 1.400 mm |
| Cân nặng | 650 kg |
| Chứng nhận | CN |
| Định vị chính xác | XY: ±30 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Độ lặp lại trục X, Y, Z | XY: ±15 µm @ 3σ Z: ±5 µm @ 3σ |
| Tốc độ tối đa | 1.000 mm/giây (X, Y) |
| Tăng tốc | 1,0 g |
| Độ phân giải của máy ảnh | 640 x 480 px (0,3 MP) |
| Hệ thống truyền động | AC servo |
| Loại băng tải | Thắt lưng |
| Khả năng chịu tải của băng tải | 3 kg |
| Chiều rộng sản phẩm tối thiểu | 50 mm |
| Chiều rộng sản phẩm tối đa | 475mm |
| Chiều dài sản phẩm tối thiểu | 50 mm |
| Chiều dài sản phẩm tối đa | 350 mm |
| Hệ điều hành phần mềm | Windows 7 |
| Phạm vi độ dày sản phẩm | 0,5–6 mm |
| Giao thức truyền thông | SMEMA |
| Khu vực điều trị bằng plasma (D x W) | 475x350mm |
|
|
|
| Thông số cơ bản | Yêu cầu hệ thống plasma |
| Nguồn RF | 600W ở 27,12 MHz |
| Khí plasma sơ cấp | Argon |
| Khí xử lý | O2, N2 hoặc H2 (những loại khác cần thử nghiệm) |
| Phạm vi áp suất cung cấp khí | 30–100 psig (0,2–0,7 MPa) |
Địa chỉ
Tầng 5, Tòa nhà 2, Số 182, Đường Trường An Tây An, Thị trấn Trường An, Đông Hoản, Tỉnh Quảng Đông, Trung Quốc.
điện thoại
