CKD Technology không chỉ có máy móc mới toanh trong kho, có thể sử dụng ngay.
Chúng tôi cũng có dịch vụ cho thuê chi tiết, sẵn sàng phục vụ yêu cầu sản xuất cụ thể của bạn đồng thời giảm đáng kể khoản đầu tư ban đầu của bạn. Liên hệ với chúng tôi để biết thêm chi tiết.
CKD có đội ngũ kỹ sư chuyên nghiệp, sẵn sàng cung cấp dịch vụ chìa khóa trao tay.
Để mua bán máy đã qua sử dụng, vui lòng liên hệ với chúng tôi qua Whatspp hoặc email.
-------------------------------------------------------------------------------------
Hệ thống plasma MYW10 cung cấp quy trình xử lý bề mặt wafer thông lượng cao, rất linh hoạt.
• Hệ thống plasma argon áp suất khí quyển
• Xử lý hàng loạt plasma nội tuyến rộng 100mm; mang lại hiệu quả cao hơn 2–5 lần và chi phí vận hành thấp hơn hơn 30% so với các phương pháp truyền thống
• Huyết tương trung tính 100%; an toàn và nhẹ nhàng trên các linh kiện điện tử nhạy cảm—không bắn phá plasma, tĩnh điện, tia lửa điện, hồ quang, bụi, nhiệt độ cao, gợn sóng bề mặt hoặc bức xạ tia cực tím, đảm bảo không gây hư hại cho sản phẩm
• Quy trình hóa học đa năng: Quy trình O2 để loại bỏ các chất ô nhiễm hữu cơ; Quá trình H2 để loại bỏ oxit kim loại và kích hoạt bề mặt sản phẩm
• Không gây ô nhiễm hạt hoặc thay đổi độ nhám bề mặt trên tấm bán dẫn
• Tương thích với cả sản xuất tấm wafer và khung băng, cho phép chuyển đổi nhanh chóng giữa hai loại
• Đạt tiêu chuẩn phòng sạch Class 10 và SEMI
| Thông số cơ bản | MYW10 |
| Yêu cầu về nguồn điện | AC 380V, 13kW, 20A, 50/60Hz |
| Yêu cầu về áp suất không khí | 90psi (6 thanh) |
| Kích thước | 2000x2800x2200mm |
| Cân nặng | 2200kg |
| Tiêu chuẩn chứng nhận | BÁN S2/S6/S8 |
| Định vị chính xác | XY: ±20 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Độ lặp lại trục XYZ | XY: ±10 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Tốc độ tối đa | 1000 mm/giây (XY) |
| Tăng tốc | 1,0g |
| Hệ thống truyền động | AC servo |
| Thông số kỹ thuật nền tảng làm việc | |
| Phương pháp tải/dỡ hàng | OHT + Cổng tải + Cánh tay robot |
| Tải trọng cánh tay robot | 3 kg |
| Kích thước wafer tương thích | 12 inch (300 mm) |
| Hệ điều hành phần mềm | Windows 10 |
| Du lịch X/Y | 400 mm / 500 mm |
| Hành trình trục Z | 20mm |
| Giao thức truyền thông | GIÂY/GEM |
| Phạm vi hoạt động | |
| Khu vực điều trị bằng plasma (W×D) | 300×300mm |
| Góc tiếp xúc nước sau xử lý (WCA) | WCA < 10° (Tấm bán dẫn silicon) |
| Phương pháp điều trị bằng huyết tương | Quá trình O2 để loại bỏ chất ô nhiễm hữu cơ Quá trình H2 để loại bỏ oxit kim loại |
| Yêu cầu hệ thống plasma | |
| Nguồn RF | 600W ở 27,12 MHz |
| Khí plasma chính | Argon |
| Khí xử lý | O2, N2 hoặc H2 |
| Phạm vi áp suất cung cấp khí | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Địa chỉ
Tầng 5, Tòa nhà 2, Số 182, Đường Trường An Tây An, Thị trấn Trường An, Đông Hoản, Tỉnh Quảng Đông, Trung Quốc.
điện thoại
